二来，1999年这会儿，尼康依然是光刻机产业的龙头企业。

大家自然都会更信任尼康的方案。

而且事实上，1999年这会儿，所有光刻机公司不管重点押注的是哪一个方案，都会组建一个专攻157nm F2激光方案的团队，包括阿斯麦。

如果阿斯麦后边没有接触到浸入式光刻机这个想法，他们大概也会继续死磕157nm F2激光方案，在这个方案上，阿斯麦跟尼康的差距是明显的，那么尼康大概率会成为这个行业的唯一霸主。

这也是何成在研究历史的过程中经常会发现的一件事情:很多时候，改变大格局的不是实力，而是运气。

但前提是得有一定的实力，才能接得住这份运气。

如今的阿斯麦已经是行业老二，所以他接得住这份运气。

换做那些即将被市场淘汰的光刻机企业，这个运气砸在他们头上也不一定接得住。

会议现场，除了讨论光源方案，自然也少不了镜头，工作台，光刻胶，光掩膜版，光刻气体等内容。

可随着分享的人越来越多，大家都意识到一件事情，现场氛围越来越压抑了。

因为好像随便单拎出来一个东西，都存在很大的差距。

尤其是当大家默认光源研究方向是157nm F2激光方案时，光刻机的突破会变成更难。

因为如果真的要采取157nm F2激光方案，那就意味着需要研制匹配的镜头，匹配的光刻胶等一大堆相关产品。

这对尼康来说都是一个巨大的挑战，更不要说是华夏这些机构和高校了。

等第一轮分享结束后，现场安静到落针可闻。

微电子研究所的副主任也是面色沉重的重新走上了舞台，“非常感谢大家的分享，相信通过刚才的分享，大家已经对其他机构或高校的情况有了一定的了解。”

说着，大屏幕上出现了一张图，图上的内容是把大家刚才分享的内容进行了一个提炼。

通过这样一张图片，可以更加简洁清晰的了解大家的情况。

“接下来，就是今天研讨会的第二项，自由讨论环节。”

“大家可以基于现在了解到的这样一个相对全面的情况，自由的表达自己的想法或建议。”

“我们期待自由讨论可以碰撞出有价值的火花。”